沿革
１９６４（Ｓ３９）年１１月１日
 東京都北区浮間に、全協化成工業として「安藤愃」個人が工場を創設し、
板加工を中心として営業を開始。
１９６６（Ｓ４１）年５月１２日
 東京都千代田区神田に資本金５０万円で全協化成工業株式会社を設立。
理化学・医療機器・合成樹脂の加工品、成型品の製造、販売。
１９６８（Ｓ４３）年３月
 資本金を１２５万円に増資。
１９６９（Ｓ４４）年～
 半導体周辺機器の製造、販売。
１９６９（Ｓ４４）年１１月
 資本金を２００万円に増資。
１９７１（Ｓ４６）年６月
 資本金を３００万円に増資。
１９７６（Ｓ５１）年６月
 東京都北区浮間に自社工場を設立し、本社を東京都北区へ移転。
神田を営業所とする。
１９７８（Ｓ５３）年
 横型石英管洗浄装置を第一号機として、
リードフレーム自動洗浄、マスク洗浄装置等の半導体関連洗浄装置の
設計・製作・据付工事を行う。
１９７９（Ｓ５４）年１２月
 資本金を５００万円に増資。
１９８５（Ｓ６０）年５月
 資本金を１，０００万円に増資。
１９８６（Ｓ６１）年１１月
 埼玉県戸田市氷川町に埼玉事業所設立。
クリーンルーム完備。
１９９０（Ｈ２）年２月
 資本金４，０００万円に増資。
１９９０（Ｈ２）年４月
 資本金を５，０００万円に増資。
ＣＡＤシステム導入。
１９９２（Ｈ４）年～
 縦型自動石英管洗浄装置の開発、販売。
１９９３（Ｈ５）年～
 ＣＡＤシステムのネットワーク化。
１９９６（Ｈ８）年～
 ＣＭＰ装置用スラリー供給システムの開発、販売。
機能水洗浄装置の共同実験開発、受託生産。
ガラス基板用機能水洗浄装置の開発、販売。
φ３００用洗浄装置の開発、販売。
φ３００スピンドライヤーの共同開発、販売。
１９９７（Ｈ９）年～
 φ３００用厚み測定器、表面形状測定器を共同開発。
１９９８（Ｈ１０）年～
 φ３００用ピッチチェンジトランスファーの開発、販売。
光ファイバー母材製造装置の開発、販売。（共同特許申請中）
全自動エッチング装置の開発、販売。
太陽電池生産ライン装置の製造、販売。
９月：セミコン台湾に出展。
１９９９（Ｈ１１）年～
 ウェハ保管ＢＯＸ・保管庫の開発、販売。（特許申請）
セミコンジャパンに出展。
２０００（Ｈ１２）年～
 φ３００用カセットレス洗浄装置の開発、販売。
９月：セミコン台湾に出展。
２００１（Ｈ１３）年～
 １月：社内ＬＡＮ構築。
２００２（Ｈ１４）年～
 ７月：第二次社内ＬＡＮ構築。
９月：光通信開通。
２００３（Ｈ１５）年～
 ５月：ＣＯ２クリーニングシステムの開発。
当社クリーンルームにデモ機設置。
ＣＯ２クリーニングシステム／ＣＯ２精製装置／
リサイクル装置の販売開始。
７月：枚葉式装置開発。
１２月：ＣＯ２クリーニングシステム、セミコンジャパンに出展。
２００５（Ｈ１７）年～
 ３月：オゾン水による「洗浄方法」
２００９（Ｈ２１）年～
 １１月：ウェハ保管ＢＯＸ・保管庫 特許取得
登録番号：特許第４４１３３７６号
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